在半導體先進制程持續(xù)迭代的今天，深紫外（DUV）光刻、化學機械研磨（CMP）、濕法刻蝕、離子注入等關鍵工藝，對環(huán)境潔凈度提出近乎苛刻的要求。氨氣（NH?）、鹽酸（HCl）、（HF）、NO?、TVOCs等痕量級空氣分子污染物（AMC），即便濃度低至 ppb 量級，也會引發(fā)光刻膠中毒、關鍵尺寸（CD）漂移、晶圓缺陷等問題，直接影響產(chǎn)品良率與長期可靠性。

杜克泰克 DK?S4500F?AMC 痕量級空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)，基于腔增強吸收光譜（CEAS） 核心技術，融合多路徑高精度檢測方案，實現(xiàn)sub?ppb 級、秒響應、全天候連續(xù)監(jiān)測，為半導體潔凈環(huán)境提供穩(wěn)定可靠的污染監(jiān)控解決方案。

多技術融合，實現(xiàn)超痕量精準檢測

系統(tǒng)采用多技術集成設計，覆蓋酸性、堿性、有機類等典型 AMC 污染物，滿足先進制程全場景監(jiān)測需求：

• EIMS 增強離子遷移譜：精準檢測 Ma 類污染物（HF、HCl、HNO?等），電離?遷移?探測三步定量，信號與濃度線性對應，數(shù)據(jù)穩(wěn)定可信。

• 紫外脈沖熒光法：專項監(jiān)測 NH?與 NO?，光學反應室配合高靈敏光電倍增管，檢出限＜0.1ppb。

• 增強型 GC?FID/GC?PID：高效分析 MC 類污染物（DOP、DBP、DEP、BHT、TVOCs 等），以氫火焰離子化原理實現(xiàn)準確定量。

核心氣體檢測限低至0.1ppb，NH?＜0.1ppb，量程比達 1:100000，準確度 ±2%，單通道響應時間僅5 秒，真正做到微量污染 “早發(fā)現(xiàn)、準測量、快響應"。

工業(yè)級穩(wěn)定設計，7×24h 無人值守

面向半導體廠區(qū)嚴苛環(huán)境，系統(tǒng)以高可靠性為核心：

• 全固態(tài)電子器件，無可移動部件，故障率低、抗干擾能力強。

• 出廠完成標定，免現(xiàn)場頻繁校準，長期穩(wěn)定性優(yōu)異。

• 斷電數(shù)據(jù)不丟失，2GB 大容量存儲可連續(xù)保存2 年數(shù)據(jù)（15 秒采樣間隔）。

• 低維護量、長免維護周期，大幅降低運維成本與停機風險。

• 采樣管路采用 PFA、PVDF 防腐材質(zhì)，搭配低吸附 SiO?涂層不銹鋼閥組，采樣距離最遠可達80 米，全程低損耗、無二次污染。

多點全域監(jiān)測，靈活適配廠區(qū)布局

系統(tǒng)支持4～64 通道多點采樣，通道數(shù)可按現(xiàn)場需求自由選配，每個通道采樣時間 1～99min 獨立可編程，可自定義吹掃與采樣順序，滿足光刻區(qū)、工藝機臺、廠務風路等多點同時監(jiān)控。適配場景覆蓋：

• DUV 及先進光刻區(qū) AMC 實時監(jiān)控

• CMP 與濕法刻蝕區(qū)域酸性 / 堿性氣體監(jiān)測

• 離子注入、薄膜沉積區(qū)域 AMC 控制

• 廠務送風 / 回風溯源、過濾器效能管理

智能交互與開放集成，輕松接入廠務系統(tǒng)

配備7 英寸觸摸屏，支持數(shù)值、表格、趨勢曲線多形式展示，界面直觀易操作。系統(tǒng)提供RS232、4?20mA、Modbus等開放通訊協(xié)議，可快速接入 MES / 廠務監(jiān)控系統(tǒng)，支持遠程操作與數(shù)據(jù)可視化管理。數(shù)據(jù)支持 U 盤、USB、以太網(wǎng)、串口多種方式導出，便于追溯、分析與合規(guī)存檔，同時配備獨立可編程報警與繼電器輸出，異常即刻響應，保障生產(chǎn)安全。

核心參數(shù)速覽

• 檢測下限：HF/HCl/NO?等0.1ppb，NH?＜0.1ppb

• 響應時間：單通道5 秒

• 準確度：±2%

• 通道數(shù)：4～64 通道可選

• 采樣距離：最遠80 米

• 工作電源：115–230Vac 50/60Hz

• 數(shù)據(jù)存儲：約 2GB，可存2 年連續(xù)數(shù)據(jù)

DK?S4500F?AMC痕量級空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)以超痕量檢測、高穩(wěn)定運行、全域化覆蓋、智能化管理，成為半導體先進制程AMC監(jiān)測的優(yōu)選方案，助力企業(yè)提升良率、保障品質(zhì)、控制風險。

杜克泰克｜以精準監(jiān)測，守護半導體潔凈未來